[发明专利]一种相含率测量方法及装置有效

专利信息
申请号: 202010265775.7 申请日: 2020-04-07
公开(公告)号: CN111398371B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 陈昭;刘马林;王江江;常家兴;陈猛;唐亚平;刘兵 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G01N27/22 分类号: G01N27/22
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 杨云云
地址: 100084 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供一种相含率测量方法及装置,根据待测量体系轮廓特征以及相介质特征,确定填补区结构;根据所述填补区结构,确定敏感场矩阵;根据所述敏感场矩阵和归一化电容值,得到相含率空间截面分布图。本发明实施例通过填补法和电容层析成像填补成像测量,结构简单,使用方便,同时能够提高准确度,能够适应一般非规则几何形状容器中的多相物质体系中的静态/动态相含率的测量。
搜索关键词: 一种 相含率 测量方法 装置
【主权项】:
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