[发明专利]一种PbS/PbSe核壳结构纳米薄膜及集成锥形光纤放大器在审
申请号: | 202010279847.3 | 申请日: | 2020-04-10 |
公开(公告)号: | CN111471979A | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 董艳华;苏采芸;赵阳阳;张海莹;王廷云;文建湘;张小贝;黄怿;商娅娜 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/455;H01S3/067;G02B6/02 |
代理公司: | 贵州派腾知识产权代理有限公司 52114 | 代理人: | 唐斌 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种PbS/PbSe核壳结构纳米薄膜及集成锥形光纤放大器,属于光纤技术和纳米材料制备技术领域。该纳米集成锥形光纤放大器由锥型光纤和光纤表面利用原子层沉积技术制备的PbS/PbSe核壳结构纳米薄膜组成,通过渐逝波原理实现光纤放大效果。所述纳米薄膜由核壳结构PbS/PbSe纳米材料组成,所述的核壳结构PbS/PbSe纳米材料包括PbS内核和包覆于所述PbS内核表面的PbSe外壳。本发明结合了PbS和PbSe纳米材料的发光特性,通过控制内核和外壳的沉积厚度精确调整发光波段,提高发光效率;PbSe外壳能够有效改善内核表面缺陷结构,提高内核的稳定性与分散性。所制备的核壳结构PbS/PbSe纳米半导体具有发光效率高、带宽精确可控、分散性高、掺杂浓度可控、损耗低、稳定性强等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 pbs pbse 结构 纳米 薄膜 集成 锥形 光纤 放大器 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的