[发明专利]清洗保护膜残留胶印的方法及用于清洗残留胶印的装置在审
| 申请号： | 202010281062.X | 申请日： | 2020-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN111443578A | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 熊启龙 | 申请（专利权）人： | 合肥清溢光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/82;B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 宫建华 |
| 地址： | 230012 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本申请属于掩模版生产技术领域，尤其涉及一种清洗保护膜残留胶印的方法及用于清洗残留胶印的装置。本申请的清洗保护膜残留胶印的方法，通过将掩膜版水平固定，可防止掩膜版在清洗时晃动导致掩膜版损伤；再通过提供干冰清洗机，便能通过‑78.5℃的干冰微细颗粒冲击作用到掩膜版上的残胶上，干冰迅速汽化，会升华过程吸收大量能量。先使残胶迅速冷冻、脆化并断裂，使残胶从粘弹态变成固态，残胶脆性增大后，粘性将减小，表面吸附力会降低。残胶断裂后，表面积会增大，在干冰的持续冲击下形成低温冷冻剥离、干冰持续压力吹扫剥离及干冰微颗粒冲击剥离等，最终残胶随干冰气流被剥离清除，且不会损伤掩膜版石英基板及表面图形。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 保护膜 残留 胶印 方法 用于 装置 | ||
【主权项】：
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