[发明专利]基于混合吸收层背入射高速铟镓砷光电探测器及制备方法在审
申请号: | 202010287158.7 | 申请日: | 2020-04-13 |
公开(公告)号: | CN111524994A | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 李庆伟;尹顺政;齐利芳;赵润;郝文嘉 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105;H01L31/0232;H01L31/0304;H01L31/18 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 祁静 |
地址: | 050051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明提供了一种基于混合吸收层背入射高速铟镓砷光电探测器及制备方法,属于光探测器领域,半绝缘衬底的正面上自下至上依次生长N型欧姆接触层、吸收层、P型阻挡层和P型欧姆接触层,半绝缘衬底的背面设有透镜;N型欧姆接触层为台面结构,N型欧姆接触层上形成N电极环,N电极环与半绝缘衬底上的N电极压点相连;P型欧姆接触层上形成P电极环,P电极环与半绝缘衬底上的P电极压点相连,P电极环内定义为光敏区,光敏区设有反射层;吸收层为本征InGaAs层与P型InGaAs层的混合吸收层。本发明引入本征及P型混合吸收层,可以增加对光的吸收;在背面制作透镜,采用背入射进光,可使光纤与透镜的耦合更为容易。 | ||
搜索关键词: | 基于 混合 吸收 入射 高速 铟镓砷 光电 探测器 制备 方法 | ||
【主权项】:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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