[发明专利]基于混合吸收层背入射高速铟镓砷光电探测器及制备方法在审

专利信息
申请号: 202010287158.7 申请日: 2020-04-13
公开(公告)号: CN111524994A 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 李庆伟;尹顺政;齐利芳;赵润;郝文嘉 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/0232;H01L31/0304;H01L31/18
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 祁静
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明提供了一种基于混合吸收层背入射高速铟镓砷光电探测器及制备方法,属于光探测器领域,半绝缘衬底的正面上自下至上依次生长N型欧姆接触层、吸收层、P型阻挡层和P型欧姆接触层,半绝缘衬底的背面设有透镜;N型欧姆接触层为台面结构,N型欧姆接触层上形成N电极环,N电极环与半绝缘衬底上的N电极压点相连;P型欧姆接触层上形成P电极环,P电极环与半绝缘衬底上的P电极压点相连,P电极环内定义为光敏区,光敏区设有反射层;吸收层为本征InGaAs层与P型InGaAs层的混合吸收层。本发明引入本征及P型混合吸收层,可以增加对光的吸收;在背面制作透镜,采用背入射进光,可使光纤与透镜的耦合更为容易。
搜索关键词: 基于 混合 吸收 入射 高速 铟镓砷 光电 探测器 制备 方法
【主权项】:
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