[发明专利]一种掩膜版的布局方法及装置、掩膜版在审
申请号: | 202010287352.5 | 申请日: | 2020-04-13 |
公开(公告)号: | CN113534601A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 李静 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F1/70 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 孙宝海;阚梓瑄 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩膜版的布局方法及装置、掩膜版,其中,掩膜版的布局方法包括:在掩膜版上形成阵列排布的芯片图形;每相邻两个芯片图形之间形成有切割道,切割道用于设置标记图形;标记图形至少包括第一标记图形;根据第一标记图形的量测对准需要,获取第一标记图形的分割单元的设定个数;将设定个数的分割单元依次设置于切割道上,使得第一标记图形未覆盖其他标记图形;设置第一标记图形单体替换至少两个相邻设置的分割单元,设置于切割道上;其中,第一标记图形单体与至少两个相邻设置的分割单元拼接形成的图形完全重合。本发明提供的技术方案,可解决人工布局标记图形效率低,且精确度低的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜版 布局 方法 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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