[发明专利]一种掩膜版的布局方法及装置、掩膜版在审

专利信息
申请号: 202010287352.5 申请日: 2020-04-13
公开(公告)号: CN113534601A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 李静 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G03F1/42 分类号: G03F1/42;G03F1/70
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 孙宝海;阚梓瑄
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种掩膜版的布局方法及装置、掩膜版,其中,掩膜版的布局方法包括:在掩膜版上形成阵列排布的芯片图形;每相邻两个芯片图形之间形成有切割道,切割道用于设置标记图形;标记图形至少包括第一标记图形;根据第一标记图形的量测对准需要,获取第一标记图形的分割单元的设定个数;将设定个数的分割单元依次设置于切割道上,使得第一标记图形未覆盖其他标记图形;设置第一标记图形单体替换至少两个相邻设置的分割单元,设置于切割道上;其中,第一标记图形单体与至少两个相邻设置的分割单元拼接形成的图形完全重合。本发明提供的技术方案,可解决人工布局标记图形效率低,且精确度低的问题。
搜索关键词: 一种 掩膜版 布局 方法 装置
【主权项】:
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