[发明专利]一种氧化物薄膜表面复合的优化方法有效
申请号: | 202010287655.7 | 申请日: | 2020-04-13 |
公开(公告)号: | CN111560602B | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 徐梁格;杨磊;代兵;杨振怀;王鹏;郭帅;耿方娟;高岗;孙春强;何利利;朱嘉琦 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/40;C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 李红媛 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 一种氧化物薄膜表面复合的优化方法,涉及一种氧化物薄膜表面的优化方法。本发明是要解决传统薄膜制备方法不可避免的存在针孔、晶粒与晶粒之间存在缝隙,粗糙度比较大等特点,造成了一定程度上的湿热耐久性差能,而原子层沉积技术存在制备薄膜沉积速度低、成本高等缺点,不适应于完全采用原子层沉积制备厚度较大的薄膜的技术问题。本发明建立复合结构,通过修饰层的制备消除了结构层表面的针孔,使其表面缺陷得到补偿,化学成分更加的均一,表面势分布梯度更小,提高了膜层表面质量。本发明普适性好、设备要求低、制备简单、重复性好的优点,具有较好的推广价值。兼顾现有膜层制备技术的结构功能特性,且价格低廉,适于工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化物 薄膜 表面 复合 优化 方法 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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