[发明专利]基板处理装置、物品制造方法、基板处理方法、基板处理系统、管理装置和存储介质在审

专利信息
申请号: 202010288053.3 申请日: 2020-04-14
公开(公告)号: CN111830792A 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 滝口贵裕;古贺慎一郎 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 宋岩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种基板处理装置、物品制造方法、基板处理方法、基板处理系统、管理装置和存储介质。提供了一种基板处理装置。该装置包括:成像单元,该成像单元对基板上的标记进行成像;以及处理器,该处理器基于由成像单元获得的标记的图像对准基板。如果对准失败,那么处理器基于包括图像的信息识别失败的因素,并且基于识别出的因素执行多个恢复处理中的至少一个恢复处理。处理器包括:输出单元,该输出单元根据推理模型输出用于恢复处理中的至少一个恢复处理的条件;以及学习单元,该学习单元基于在从输出单元输出的条件下恢复处理中的至少一个恢复处理的执行结果来学习推理模型。
搜索关键词: 处理 装置 物品 制造 方法 系统 管理 存储 介质
【主权项】:
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