[发明专利]具有稀土掺杂层的磁存储复合多层膜在审
申请号: | 202010297847.6 | 申请日: | 2020-04-16 |
公开(公告)号: | CN111364013A | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 王文爽;沈文齐 | 申请(专利权)人: | 蚌埠泰鑫材料技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/16;H01F41/18;G11C11/16 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 汤文旋 |
地址: | 233000 安徽省蚌埠市蚌山*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有稀土掺杂层的磁存储复合多层膜,该具有稀土掺杂层的磁存储复合多层膜自下而上依次包括:基片层、晶种层、Co/Pt交叠层、第一非磁性金属层、第二非磁性金属层、CoFeBGd层、第一MgO层、CoFeBY层、第三非磁性金属层、CoFeBNd层、第二MgO层以及第四非磁性金属层。本发明的具有稀土掺杂层的磁存储复合多层膜通过合理掺杂稀土元素和类稀土元素,能够提高膜层材料的各项性能。 | ||
搜索关键词: | 具有 稀土 掺杂 存储 复合 多层 | ||
【主权项】:
暂无信息
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