[发明专利]缺陷判断训练方法及其的系统及缺陷判断方法及其的系统有效

专利信息
申请号: 202010300051.1 申请日: 2020-04-16
公开(公告)号: CN111507961B 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 吴精文;李世欣 申请(专利权)人: 住华科技股份有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 张燕华
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 缺陷判断训练方法包括以下步骤。首先,获取光学膜的图像,图像包含一缺陷区。然后,取得缺陷区的缺陷边界的多个边界点沿方向的多个座标值。然后,取得此些座标值的平均座标值。然后,取得各座标值与平均座标值的差值。然后,依据此些差值的最大者,决定图像中做为缺陷判断机器学习的区域。
搜索关键词: 缺陷 判断 训练 方法 及其 系统
【主权项】:
暂无信息
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