[发明专利]光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法在审
| 申请号： | 202010303264.X | 申请日： | 2020-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN111880376A | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | L·麦克金;J·科布森;A·H·J·坎普赫尤斯 | 申请（专利权）人： | 恩智浦美国有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 张小稳 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法。用于集成电路装置图案化的光学控制模块、掩模版及包括光学控制模块和掩模版的方法。方法包括经由掩模版在半导体衬底的表面上曝光初始掩模版曝光场和后续掩模版曝光场。初始掩模版曝光场和后续掩模版曝光场在半导体衬底上图案化相应的阵列区域和边缘区域。初始掩模版曝光场与所述后续掩模版曝光场部分重叠，使得在初始掩模版曝光场的曝光期间图案化的初始光学控制模块(OCM)和在后续掩模版曝光场的曝光期间图案化的后续OCM都定位在单个控制模块管芯内。掩模版包括可以在方法期间使用或可以形成所述集成电路装置的掩模版。集成电路装置包括使用方法或掩模版形成的集成电路装置。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 控制 模块 模版 包括 光控 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩智浦美国有限公司，未经恩智浦美国有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010303264.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
