[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示面板、显示装置在审

专利信息
申请号: 202010311566.1 申请日: 2020-04-20
公开(公告)号: CN111509008A 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 唐亮;刘亮亮;彭利满;吴岩;白妮妮;陈强;刘旭;景国栋;张倩倩;薛智勇;郭强;徐国芳;李子华;王强;张瑞卿;王旭东 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L27/12
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 杨广宇
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种阵列基板及其制造方法、显示面板、显示装置,属于显示设备领域。该方法包括:提供具有导电图案层的衬底基板,所述衬底基板具有显示区和位于所述显示区周围的周边区,所述导电图案层包括位于所述周边区的多根导电线;在所述导电图案层上形成电极材料膜层;在所述电极材料膜层上形成掩膜层,所述掩膜层包括位于所述显示区的多个电极层图案和位于所述导电线上方的保护图案;刻蚀所述电极材料膜层,并去除所述掩膜层。在多个电极层图案的作用下可以刻蚀出多个电极,在保护图案的作用下,可以避免导电线上被保护图案遮挡的区域受到刻蚀溶液的腐蚀。
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 显示 面板 显示装置
【主权项】:
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