[发明专利]一种用于半导体制造的洁净室系统及其电场除尘方法在审
| 申请号： | 202010323654.3 | 申请日： | 2020-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN113522526A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 唐万福;赵晓云;王大祥;段志军;邹永安;奚勇 | 申请（专利权）人： | 上海必修福企业管理有限公司 |
| 主分类号： | B03C3/04 | 分类号： | B03C3/04;B03C3/34;B03C3/41;B03C3/49;B03C3/66;B03C3/70 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201112 上海市闵*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于半导体制造的洁净室系统及其电场除尘方法，所述洁净室系统包括洁净室、电场除尘系统；所述洁净室包括气体入口；所述电场除尘系统包括除尘系统出口、电场装置；所述洁净室的气体入口与所述电场除尘系统的除尘系统出口连通；所述电场装置包括电场装置入口、电场装置出口、电场阴极和电场阳极，所述电场阴极和所述电场阳极用于产生电离电场。本发明能有效除去半导体制造行业中的颗粒物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体 制造 洁净室 系统 及其 电场 除尘 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海必修福企业管理有限公司，未经上海必修福企业管理有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010323654.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
