[发明专利]一种煅后焦后处理用立磨机在审
申请号: | 202010324899.8 | 申请日: | 2020-04-23 |
公开(公告)号: | CN111468242A | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 刘新平;孙庆龄 | 申请(专利权)人: | 刘新平 |
主分类号: | B02C15/00 | 分类号: | B02C15/00;B02C23/02;B02C23/00 |
代理公司: | 广州高炬知识产权代理有限公司 44376 | 代理人: | 刘志敏 |
地址: | 417631 湖南省娄*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明属于立磨机技术领域,具体的说是一种煅后焦后处理用立磨机,包括机架、壳体、电机、减速器、分离器、磨盘、磨辊以及进料斗,所述机架上设有空气压缩机,所述磨盘顶端转动安装有挡块,所述挡块为圆锥状空腔结构,所述挡块的内腔中沿其转轴等距离固定有两个以上的伸缩杆,所述伸缩杆为空腔结构,所述空气压缩机通过气管与伸缩杆的内腔连通,所述空气压缩机用于带动伸缩杆伸缩,所述伸缩杆穿过挡块,所述伸缩杆位于挡块外部的一端固定有拨块;本发明通过挡块和拨块的设置来对磨盘顶端的堆积颗粒进行推动,使得磨盘中心不会产生堆积,从而保证了立磨机的研磨效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 煅后焦后 处理 用立磨机 | ||
【主权项】:
暂无信息
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