[发明专利]一种石墨切片的高精度抛光设备在审

专利信息
申请号: 202010326033.0 申请日: 2020-04-23
公开(公告)号: CN111531452A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 周志强 申请(专利权)人: 浙江华熔科技有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/02;B24B41/06;B24B47/12;B24B47/22;B24B49/00;B24D13/14
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 沈涛
地址: 313000 浙江省湖*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明属于石墨产品加工设备技术领域,具体公开了一种石墨切片的高精度抛光设备,包括机架、工作台和打磨组件。通过在工作台表面开设小孔进行抽真空吸附固定石墨切片,在机架上设置双滑轨及打磨组件调节抛光位置,初步获得较高的抛光精度;通过在小孔周围设置与小孔连通的环形沟道加强真空吸附效果,结合工作台凹陷区的设置,确保石墨切片在抛光过程不会发生位置偏移,提高抛光精度;通过抛光盘金属层、橡胶层及抛光层的三层结构设计,提高打磨组件的平稳性,进一步提高抛光精度。此外,本发明还具有操作简单、安全性高、抛光层易替换、抛光效率高的特点。
搜索关键词: 一种 石墨 切片 高精度 抛光 设备
【主权项】:
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