[发明专利]近红外光斑投影的多焦距微透镜阵列遥感光场成像系统在审

专利信息
申请号: 202010326556.5 申请日: 2020-04-23
公开(公告)号: CN111650759A 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 晏磊;赵守江;杨鹏;林沂;赵红颖;姜凯文;张飞舟;范闻捷;赵海盟;杨锦发;刘帆 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G02B30/27 分类号: G02B30/27;G01C11/02
代理公司: 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 代理人: 司立彬
地址: 100871 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种近红外光斑投影的多焦距微透镜阵列遥感光场成像系统,其特征在于,包括近红外光斑投影装置(100)、光场成像组件(200);其中,所述近红外光斑投影装置(100),用于在观测目标上散布近红外光斑,增加目标图像的纹理信息;所述光场成像组件(200),用于对附加了纹理信息的目标场景光线进行成像。本发明能够提高目标景深探测范围的新型遥感光场成像、特别是能够实现弱纹理目标的表面重构。
搜索关键词: 红外 光斑 投影 焦距 透镜 阵列 遥感 成像 系统
【主权项】:
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