[发明专利]光刻机、瞳面透过率分布检测装置及检测方法有效
| 申请号： | 202010327823.0 | 申请日： | 2020-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN113552773B | 公开（公告）日： | 2023-02-10 |
| 发明（设计）人： | 孙文凤;尹光才;田毅强 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻机、瞳面透过率分布检测装置及检测方法，所述瞳面透过率分布检测装置中的所述图像传感器和所述功率计均设置于一物镜的像面上。其中，一光束沿第一光路或第二光路传播至所述物镜的像面上，且所述光束具有一预设光束角。所述图像传感器用于测量经所述第一光路的所述光束的照明光瞳信息。所述功率计用于测量经所述第二光路的所述光束的像面光瞳信息。所述数据处理器根据所述照明光瞳信息和所述像面光瞳信息得到所述瞳面的透过率分布。因所述光束预设的光束角能够使得图像传感器能够不受物镜的影响，在像面上获取所述照明光瞳信息，从而能够实现瞳面透过率分布的高精度在线测量，有助于准确掌握物镜的像质状态，提高成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 透过 分布 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
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