[发明专利]一种低温掺杂、高光致发光量子产率的钙钛矿薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010330762.3 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111477746B 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 方国家;刘永杰;刘陈威 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/44;H01L51/46;H01L51/48;H01L51/50;H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 李炜
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种低温掺杂、高光致发光量子产率的钙钛矿薄膜及其制备方法。本发明采用低温前驱液金属镧离子掺杂,无需高温注入和绝缘配体辅助结晶即可得到高荧光量子产率钙钛矿薄膜。对于带隙不同的钙钛矿,都可以进行金属镧离子掺杂,在365nm激光激发下基本可以得到红绿蓝三原色荧光发射。所述的方法在相对低温环境下,通过温度梯度退火和溶剂氛围退火,制备的钙钛矿晶体质量更高,缺陷更少,非辐射复合路径被有效抑制。所制备的钙钛矿薄膜在半导体发光领域具有良好的应用前景,其高效、简单的制备方法对于钙钛矿材料的商业化应用具有极大的潜力。
搜索关键词: 一种 低温 掺杂 光致发光 量子 钙钛矿 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学,未经武汉大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010330762.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top