[发明专利]偏光板和光学设备、以及偏光板的制造方法有效

专利信息
申请号: 202010334397.3 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111913246B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 涩谷和幸;榊原重司;菅原利明;松野雄介;高田昭夫 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 北京挚诚信奉知识产权代理有限公司 11338 代理人: 徐月;马铁军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于提供线栅偏光板和光学设备、以及偏光板的制造方法,所述线栅偏光板具有耐热性,同时具有优异的偏光特性,即使是小的间距、细的线的结构也具有耐久性。解决手段为一种偏光板,其为具有线栅结构的偏光板,具备透明基板以及阵列,所述阵列由以30nm以上100nm以下的间距在所述透明基板上排列且在规定方向上延伸的格栅状的多个凸部构成,所述凸部至少包含反射层,在相邻的所述凸部的间隙填充有电介质材料,所述阵列固定在由所述电介质材料构成的电介质层内。
搜索关键词: 偏光 光学 设备 以及 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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