[发明专利]一种耐磨性纳米SiO2在审

专利信息
申请号: 202010337977.8 申请日: 2020-04-26
公开(公告)号: CN111471175A 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 卢立文 申请(专利权)人: 卢立文
主分类号: C08G73/10 分类号: C08G73/10;C08G18/77;C08G18/32;C08K7/26
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 311200 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及耐磨性聚酰亚胺材料技术领域,且公开了一种耐磨性纳米SiO2‑聚脲原位改性聚酰亚胺材料,包括以下配方原料及组分:聚脲接枝纳米SiO2、聚酰胺酸前驱体、二酐单体。该一种耐磨性纳米SiO2‑聚脲原位改性聚酰亚胺材料,以功能化纳米SiO2的异氰酸酯基团作为反应位点,原位生成端异氰酸酯基聚脲分子,聚酰胺酸与聚脲接枝纳米SiO2在二酐单体的交联作用下进行共聚,通过热亚胺化处理,得到纳米SiO2‑聚脲原位改性聚酰亚胺,改善了纳米SiO2与聚酰亚胺的相容性,避免了纳米SiO2团聚和结块的现象,降低了聚酰亚胺的摩擦系数和磨损率,增强了材料的耐磨性,并且纳米SiO2和聚作为软段结构脲分子,对聚酰亚胺具有优异的增韧效果。
搜索关键词: 一种 耐磨性 纳米 sio base sub
【主权项】:
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