[发明专利]屏幕显示的精度提升方法在审
| 申请号： | 202010343259.1 | 申请日： | 2020-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN111427232A | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 张伟;刘易朋;侯蒙召;唐少博 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42;G03F9/00 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 张晓薇 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种屏幕显示的精度提升方法，本发明实施例在各个层别光罩上设置至少一第一曝光标记图案和至少一第二曝光标记图案；依序利用所述各个层别光罩对沉积层进行曝光，形成第一曝光标记，第二曝光标记和曝光区域；获取所述第一曝光标记和所述第二曝光标记之间的相对偏移量，调整所述曝光区域的参数，从而提升拼接区域的精度，避免出现亮度不均匀和各种可见痕迹等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 屏幕 显示 精度 提升 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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