[发明专利]一种低操作电压半浮栅存储器及其制备方法

摘要

本发明属于集成电路存储器技术领域，具体为一种低操作电压半浮栅存储器及其制备方法。本发明的半浮栅存储器包括：半导体衬底，具有第一掺杂类型；半浮栅阱区，具有第二掺杂类型；U型槽，贯穿半浮栅阱区，底部处于半浮栅阱区的下边界；第一栅介质层，覆盖U型槽的表面；第一金属栅覆盖第一栅介质层；第二栅介质层覆盖第一金属栅表面和部分半浮栅阱区表面，第二金属栅覆盖第二栅介质层，且第二栅介质层和第二金属栅在U型槽内部均有覆盖；栅极侧墙，位于第一栅极叠层和第二栅极叠层两侧；源电极和漏电极，位于第一栅极叠层和第二栅极叠层两侧。本发明半浮栅晶体管的开关速度增加，操作电压降低；控制栅对U型槽附近的沟道的控制能力有极大增加。