[发明专利]一种用于化学机械抛光的修整器和化学机械抛光装置有效
| 申请号： | 202010353220.8 | 申请日： | 2020-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN111482903B | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 许振杰;王春龙 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/02 | 分类号： | B24B53/02;B24B53/14;B24B29/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于化学机械抛光的修整器和化学机械抛光装置，修整器包括基座组件、传动轴和修整组件，所述传动轴同轴设置于所述基座组件内，所述修整组件设置于所述基座组件下侧并随所述传动轴转动；所述基座组件内设置有磁敏传感器，所述修整组件内设置有磁铁，所述磁敏传感器检测所述磁铁形成的磁场的磁感应强度以测量修整组件相对于基座组件的位置；所述磁敏传感器与磁铁之间的竖直距离为2mm‑10mm。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 修整 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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