[发明专利]一种利用等离子体激励调控压气机叶型附面层流动的装置和方法有效

专利信息
申请号: 202010353729.2 申请日: 2020-04-21
公开(公告)号: CN111520352B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 张海灯;汪一舟;吴云 申请(专利权)人: 中国人民解放军空军工程大学
主分类号: F04D27/00 分类号: F04D27/00;F04D29/68
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710051 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种利用等离子体激励调控压气机叶型附面层流动的装置,包括栅板(1),叶片(2),一组等离子体激励器,热线风速仪探头(5),等离子体电源(6)。将探头置于叶片吸力面激励区域后侧,实施等离子体激励前对基准流场的速度脉动进行监测采集。不改变流场其他参量前提下,更换不同类型电源,用探头对同一位置流场进行等时长脉动信号采集,对激励流场脉动信号进行捕捉。通过改变电源输出电压、激励频率和占空比等参量调节等离子体激励诱导形成的壁面射流或诱导形成的额外流动结构,实现对压气机叶型附面层流动的调控。通过等离子体激励对叶型附面层内速度和压力脉动进行扰动,对附面层的转捩产生影响,可有效调控压气机叶型附面层的流动。
搜索关键词: 一种 利用 等离子体 激励 调控 压气 机叶型 附面层 流动 装置 方法
【主权项】:
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