[发明专利]一种基于反射式光场增强的微纳光印制造方法

摘要

本发明公开了一种基于反射式光场增强的微纳光印制造方法，包括：1)在基片表面沉积一层低损耗的反射层；2)将高分辨力的流体聚合物材料旋涂在反射层表面；3)在微纳米掩模版表面制作一层抗粘接层；4)通过机械装置将在反射层表面旋涂有高分辨力流体聚合物材料的基片与微纳米掩模版图形面调平并接触；5)通过精密压力传递方法将高分辨力的流体聚合物材料表面浅层挤压进入掩模版图形透光区；6)曝光，在反射层的作用下使穿过掩模版图形的光场局域在透光区，使挤压进入掩模版图形透光区及到反射层之间的局部流体聚合物材料感光及固化；7)脱模后将基片放入显影液中显影，去掉未感光及固化的聚合物材料，得到复制后的图形。适用于高深宽比结构加工。