[发明专利]一种偏振体全息光栅的曝光方法有效
| 申请号： | 202010354946.3 | 申请日： | 2020-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN111352182B | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 刘奡;翁一士 | 申请（专利权）人： | 刘奡 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 徐激波 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种偏振体全息光栅的曝光方法，该方法利用契形双折射晶体棱镜的双折射和随空间位置变化的光程差，产生相位延迟随空间位置变化的o光与e光，通过屋脊棱镜调整o光e光传播方向后，再利用双折射光束偏移器或其它方式将其合束，生成偏振取向沿空间位置周期性旋转调制的曝光光场。该偏振取向周期性调制光场所对应的图案通过曝光的方式记录在光取材料向层上，并进一步传递到液晶分子层形成偏振体全息光栅或Pancharatnam‑Berry(PB)光栅。该方法可以通过单光束直接生成偏振取向周期性旋转调制的曝光光场，避免了双光束干涉曝光方法对制备系统稳定性的极高要求，使得该类光栅的制备更具低成本，高稳定性和单步曝光的特征。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 偏振 全息 光栅 曝光 方法 | ||
【主权项】：
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