[发明专利]一种兼顾调焦调平和精密对准的测量系统及其测量方法有效
| 申请号： | 202010355166.0 | 申请日： | 2020-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN111381460B | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;刘明刚;高平;蒲明博;马晓亮;李雄 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种兼顾调焦调平和精密对准的测量系统及其测量方法。该系统的特点在于将暗场莫尔条纹对准偏差检测功能和啁啾光栅间隙检测功能集成到一组探测单元中。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统实现了垂向测量系统和水平向测量系统的一体化结构，减少了光刻机整机系统的空间需求，节约了光刻机的空间占用率。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统的测量方法，实现对基片的调焦调平及对准，提高了光刻机工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 兼顾 调焦 平和 精密 对准 测量 系统 及其 测量方法 | ||
【主权项】：
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