[发明专利]一种基于二单元扫描干涉仪的自定标近场成像方法及其系统有效
| 申请号： | 202010355679.1 | 申请日： | 2020-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN111505637B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 周燕晖;刘浩;张成 | 申请（专利权）人： | 中国科学院国家空间科学中心 |
| 主分类号： | G01S13/90 | 分类号： | G01S13/90;G01S7/40 |
| 代理公司： | 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 | 代理人： | 陈琳琳;杨青 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于近场目标探测与成像技术领域，涉及一种基于二单元扫描干涉仪的自定标近场成像方法，包括：利用两个天线单元进行分时采样，将两个接收机接收的采样数据进行复相关运算，获得与每一基线对应的可视度函数值，生成一个可视度函数值集合，作为可视度函数；对获得的可视度函数进行接收机通道相位误差校正和近场相位误差校正，获得近场误差校正后的可视度函数；基于近场待观测视场的二维亮温图像与近场误差校正后的可视度函数之间的傅里叶变换关系，以近场待观测视场的二维亮温图像为输入变量，利用近场误差校正后的可视度函数，根据不同的天线阵列构型，采用不同的快速逆傅里叶变换算法，进行图像反演，获得近场观测视场的亮温图像。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 单元 扫描 干涉仪 定标 近场 成像 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
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