[发明专利]一种连续真空镀膜装置在审

专利信息
申请号: 202010358393.9 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN111411327A 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 胡均松 申请(专利权)人: 胡均松
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/50;C23C14/56
代理公司: 北京艾皮专利代理有限公司 11777 代理人: 郭童瑜
地址: 435400 湖北省黄*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种连续真空镀膜装置,属于真空镀膜技术领域,包括镀膜室以及设置在所述镀膜室内底部的蒸发室,所述蒸发室内部设置有加热板,所述镀膜室上部通过支撑筒连接有驱动箱体,所述支撑筒内部设置有镀膜通道,所述驱动箱体上部开设有取放口,所述取放口处设置有密封门,驱动箱体内部对称设置有两组驱动组件,所述驱动组件包括相连相对设置的驱动带轮。本发明实施例中,通过将夹持组件对应安装在两组传动带内侧,并将工件安装在两组夹持组件之间,利用驱动组件带动两组传动带同步运行,从而将工件分别带动至镀膜通道上方,配合摩擦组件带动工件进行转动,实现工件的全面连续镀膜,具有地膜效果好以及效率高的优点。
搜索关键词: 一种 连续 真空镀膜 装置
【主权项】:
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