[发明专利]一种连续真空镀膜装置在审
申请号: | 202010358393.9 | 申请日: | 2020-04-29 |
公开(公告)号: | CN111411327A | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 胡均松 | 申请(专利权)人: | 胡均松 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/56 |
代理公司: | 北京艾皮专利代理有限公司 11777 | 代理人: | 郭童瑜 |
地址: | 435400 湖北省黄*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种连续真空镀膜装置,属于真空镀膜技术领域,包括镀膜室以及设置在所述镀膜室内底部的蒸发室,所述蒸发室内部设置有加热板,所述镀膜室上部通过支撑筒连接有驱动箱体,所述支撑筒内部设置有镀膜通道,所述驱动箱体上部开设有取放口,所述取放口处设置有密封门,驱动箱体内部对称设置有两组驱动组件,所述驱动组件包括相连相对设置的驱动带轮。本发明实施例中,通过将夹持组件对应安装在两组传动带内侧,并将工件安装在两组夹持组件之间,利用驱动组件带动两组传动带同步运行,从而将工件分别带动至镀膜通道上方,配合摩擦组件带动工件进行转动,实现工件的全面连续镀膜,具有地膜效果好以及效率高的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胡均松,未经胡均松许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010358393.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种处理污水MVR蒸发器及其应用工艺
- 下一篇:一种导座
- 同类专利
- 专利分类