[发明专利]零部件、其形成涂层的方法及装置和等离子体反应装置在审
| 申请号： | 202010361061.6 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113594013A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 段蛟;孙祥;陈星建 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳中创智财知识产权代理有限公司 44553 | 代理人： | 文言;田宇 |
| 地址： | 200120 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于等离子体刻蚀技术领域，公开了一种形成耐等离子体涂层的方法、形成耐等离子体涂层的装置、用于等离子体反应装置的零部件和等离子体反应装置。其中，等离子体反应装置包括反应腔，反应腔内为等离子体环境，零部件暴露于等离子体环境中，零部件包括零部件本体和耐等离子体涂层，零部件本体具有孔结构，耐等离子体涂层位于零部件本体表面和孔结构的内表面。本发明实施例提供的零部件，在零部件的实际使用过程中，其孔结构的内表面的耐腐蚀涂层不容易被等离子体轰击而产生脱落现象，进一步降低因耐等离子体涂层脱落而引发的金属污染的风险，能够提高零部件的服役寿命，并提升等离子体刻蚀制程的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 零部件 形成 涂层 方法 装置 等离子体 反应 | ||
【主权项】：
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