[发明专利]一种金属离子源发射装置有效

专利信息
申请号: 202010363614.1 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN111668080B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 廖斌;欧阳潇;王国梁;欧阳晓平;罗军;庞盼;陈琳;张旭;吴先映;英敏菊 申请(专利权)人: 北京师范大学;广东省广新离子束科技有限公司
主分类号: H01J37/08 分类号: H01J37/08
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 张琳丽
地址: 100875 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种金属离子源发射装置,包括密封连接的陶瓷筒、引出电极室和三个并排设置的阴极,触发电极固定在陶瓷绝缘电极上,阴极靶材固定在间接冷却通道上,限位电极固定在固定电极上,固定电极通过螺扣将间接冷却通道固定在阴极冷却管上,阴极冷却管固定在阴极法兰上,触发接线柱通过导线和触发电极相连;引出电极室中位于阴极正下方设置有引出电极和加速电极,加速电极和引出电极上均设置有引出缝隙。该金属离子源发射装置,能够在一个阳极的情况下,同时让3个阴极进行工作,增大了离子源的照射面积,提高了工作效率、能源利用率;发射源更加紧凑,处理面积更大。
搜索关键词: 一种 金属 离子源 发射 装置
【主权项】:
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