[发明专利]波片、波片制造方法以及光学装置在审
| 申请号： | 202010367021.2 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN111913247A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 小川健吾;山田真也;横田裕章 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本制钢所 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B27/28 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开波片、波片制造方法以及光学装置。根据一种实施方式的所述波片(1)包括：包括第一主面和沿第一方向的光轴(13)的第一双折射基片(10)；设于所述第一双折射基片(10)上的第二双折射基片(20)，该第二双折射基片包括第二主面和沿第二方向的光轴(23)；以及设于所述第二双折射基片(20)上的第三双折射基片(30)，该第三双折射基片包括第三主面和沿第三方向的光轴(33)。所述第一双折射基片(10)和第二双折射基片(20)由同种双折射材料制成。所述第一主面、第二主面以及第三主面设为彼此平行。所述第一方向和第二方向与所述第一主面和第二主面平行。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 方法 以及 光学 装置 | ||
【主权项】：
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