[发明专利]一种梯度线圈及梯度线圈制造方法有效
| 申请号： | 202010368136.3 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN111505552B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 刘曙光;王利锋;晏焕华 | 申请（专利权）人： | 联影（常州）医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 213125 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于磁共振成像及应用技术领域，公开了一种梯度线圈及梯度线圈制造方法。该梯度线圈包括：相互连接的主梯度线圈和屏蔽梯度线圈，主梯度线圈和屏蔽梯度线圈中每层线圈均通过导体缠绕形成，主梯度线圈和屏蔽梯度线圈中至少一层线圈为双层导体结构。该梯度线圈用双层导体结构，其产生的梯度场的耦合叠加，可以实现在相同电流情况下，比单层线圈高出1.5倍‑2倍的梯度强度，从而可以用于磁共振成像的一些高级序列应用。另外，可以提供了更多线圈设计自由度,通过优化的设计算法，双层导体结构分布可以更精确地逼近理想梯度电流分布,产生更准确的梯度磁场，可以实现更高的梯度线性度，从而使磁共振扫描图像更清楚准确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 梯度 线圈 制造 方法 | ||
【主权项】：
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