[发明专利]一种半导体晶片喷砂加工除尘装置

摘要

本发明公开一种半导体晶片喷砂加工除尘装置，除尘装置包括除尘塔和连通件，所述除尘塔上连通设有第一除尘箱体，第一除尘箱体的一端与除尘塔连通，另一端设有水箱，水箱的上连通设有第二除尘箱，水箱上设有喷淋泵，喷淋泵的输入端插入水箱，输出端与除尘塔连通，连通件将第一除尘箱体、水箱和第二除尘箱连通在一起，除尘塔的下方设有过滤件。本发明除尘装置将气体通过水箱后经过第二除尘箱进行三次除尘后排出，经过多次除尘后排出提高除尘的效率，减少对环境的污染，有利于生态环境建设；喷淋后的水经过连通件回流至水箱，形成用水循环，减少污水外排。