[发明专利]一种高发光效率的量子点膜及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 202010372351.0 申请日: 2020-05-06
公开(公告)号: CN111647380B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 肖蔓达;黄瑜;刘亮 申请(专利权)人: 武汉华彩光电有限公司
主分类号: C09J175/04 分类号: C09J175/04;C09J163/00;C09J133/12;C09J125/06;C09J11/04;C09J11/06;B32B7/12;B32B37/12
代理公司: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 代理人: 易贤卫
地址: 430000 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开一种高发光效率的量子点膜及其制备工艺。该高发光效率的量子点膜的制备工艺,包括以下步骤:按重量份,提供胶黏剂80~150份、无机粒子1~10份、量子点浓缩液1~10份和光引发剂0.1~5份,混合配置成量子点胶层涂布液;提供第一阻隔膜和第二阻隔膜,将量子点胶层涂布液涂覆于第一阻隔膜和第二阻隔膜间,得到量子点膜预制品;将量子点膜预制品进行多级固化处理,得到量子点膜。本发明采用光引发剂与多级固化工艺匹配的方式,优化量子点膜的固化工艺,提高固化效率和减少对量子点的影响,最终提高量子点膜光学性能的稳定性和产品生产过程中的良率。
搜索关键词: 一种 发光 效率 量子 及其 制备 工艺
【主权项】:
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