[发明专利]一种非周期平面稀疏相控阵设计方法有效
申请号: | 202010372769.1 | 申请日: | 2020-05-06 |
公开(公告)号: | CN111625936B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 王凯;刘登宝;李琳;王蕾 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第三十八研究所 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;G06N3/006;H01Q21/00 |
代理公司: | 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 | 代理人: | 王林 |
地址: | 230000 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种非周期平面稀疏相控阵设计方法,属于阵列天线设计技术领域,包括以下步骤:S1:剖分初始平面;S2:构建初始非周期稀疏平面阵;S3:引入额外扰动阵元;S4:优化扰动单元位置。三种所述基础三角形面元形状和尺寸均不同,所述初始三角平面与三种所述基础三角形面元中任一种之间为相似关系。本发明设计的相控阵,具有宽频带、宽扫描角,低旁瓣特性的优良特性,以3个不同类型的三角形平面为基元,使得利用少量变量即可表征一个具有成百上千阵元的阵列,从而大大简化了大规模阵列的优化过程;此外,采用了CMA‑ES优化算法,相比通用的遗传算法,粒子群优化算法等,也具有更好的全局搜索能力,故而高效稳定,值得被推广使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 周期 平面 稀疏 相控阵 设计 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第三十八研究所,未经中国电子科技集团公司第三十八研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010372769.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。