[发明专利]一种空穴注入材料在审

专利信息
申请号: 202010377812.3 申请日: 2020-05-07
公开(公告)号: CN113620842A 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 张双 申请(专利权)人: 上海和辉光电股份有限公司
主分类号: C07C255/52 分类号: C07C255/52;C07C255/34;C07C253/30;C07C17/263;C07C25/24;C07C41/30;C07C43/225;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 上海隆天律师事务所 31282 代理人: 朱俊跃;钟宗
地址: 201506 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种空穴注入材料,此空穴注入材料是苯并富瓦烯类化合物,并含有氰基、氟基、三氟甲基等。本发明的技术方案具有良好的交叉超共轭特性,结合氰基以及氟基等强吸电子基团,能够赋予分子较强的还原电位,从而辅助空穴传输层高效地进行空穴的注入。
搜索关键词: 一种 空穴 注入 材料
【主权项】:
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