[发明专利]一种进气结构及等离子刻蚀设备在审
| 申请号： | 202010379297.2 | 申请日： | 2020-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN111430213A | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 吴堃;杨猛 | 申请（专利权）人： | 上海邦芯半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 成都顶峰专利事务所(普通合伙) 51224 | 代理人： | 杨国瑞 |
| 地址： | 200000 上海市金*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体集成电路制造技术领域，公开了一种进气结构及等离子刻蚀设备。即通过对第一阀门的导通/截止控制，能够将并排的多条进气支路可调地分成两部分：一部分排列相邻的进气支路导入分配后的其中一路进气，另一部分排列相邻的进气支路导入分配后的另一路进气，进而可通过进气支路的可调节组合，来达成对气体分区及室内气体分布影响区域的可调节组合，使得室内不同气体分布影响区域的分界点不再固化，可方便用户进行自定义，最终实现对室内气体分布进行灵活把控的目的，拓展了适用范围，以及大大增加了等离子刻蚀设备在均匀性和一致性方面的调节能力，可提升刻蚀工艺的产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 等离子 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
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