[发明专利]基于结构光的二维DIC光学引伸计离面补偿装置及方法在审

专利信息
申请号: 202010382384.3 申请日: 2020-05-08
公开(公告)号: CN111426280A 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 翟超;李慧;汪连坡;顾永刚 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: G01B11/16 分类号: G01B11/16;G06T7/80
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆宗力
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种基于结构光的二维DIC光学引伸计离面补偿装置及补偿方法,光源装置照射标定板的标定面和试件的测量面;结构光投影装置投射结构光至标定面,并由相机获取标定面的标定图像和结构光投射至标定面相应光条的标定光条图像后,结构光投影装置投射结构光至测量面,且由相机获取测量面的散斑图像和结构光投射至测量面相应光条的光条图像;图像处理装置根据标定图像和标定光条图像,对相机和结构光进行标定得到相机的内参和外参及结构光平面方程,并将光条图像代入结构光平面方程得到离面位移,进而补偿伪应变。本发明提供的技术方案,能够对离面位移和光轴非垂直安装所产生的伪应变进行补偿,提高了测量精度。
搜索关键词: 基于 结构 二维 dic 光学 引伸计离面 补偿 装置 方法
【主权项】:
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