[发明专利]一种提升量子效率的LED外延生长方法有效
申请号: | 202010386169.0 | 申请日: | 2020-05-09 |
公开(公告)号: | CN111540814B | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 徐平;谢鹏杰;刘康;尹志哲 | 申请(专利权)人: | 湘能华磊光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32;C23C16/34;C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 | 代理人: | 张勇;唐玲 |
地址: | 423038 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本申请公开了一种提升量子效率的LED外延生长方法,依次包括:处理衬底、生长低温GaN缓冲层、生长不掺杂GaN层、生长掺杂Si的N型GaN层、生长多量子阱层、生长AlGaN电子阻挡层、生长掺杂Mg的P型GaN层和降温冷却,其中生长多量子阱层依次包括生长InGaN阱层、生长低温Mg陡峭掺杂AlGaInN层、生长高温不掺杂AlGaInN层和生长GaN垒层的步骤。本发明方法解决现有LED外延生长方法中存在的电子泄露引起的量子效率出现坍塌问题,从而提高LED的发光效率,降低工作电压,减少波长漂移。 | ||
搜索关键词: | 一种 提升 量子 效率 led 外延 生长 方法 | ||
【主权项】:
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