[发明专利]坩埚装置、蒸镀装置有效
申请号: | 202010388897.5 | 申请日: | 2020-05-09 |
公开(公告)号: | CN111455322B | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 伍丰伟 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/14;C23C14/04 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 吕姝娟 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种坩埚装置、蒸镀装置,所述坩埚装置用以蒸镀金属铝材料,其包括:外层坩埚,具有一外层腔体,其腔体表面覆有热量反射涂层;内层坩埚,具有主体部,所述主体部嵌套于所述外层坩埚的外层腔体内。本发明一方面,通过在外层坩埚内壁设置热量反射涂层,可以使得坩埚装置内的蒸镀材料维持稳定的蒸发速率,并有效的提高蒸镀速率;另一方面,在内层坩埚的上方设置凹槽,且每个凹槽具有溢流孔,可以用于疏导溢出液体至外层坩锅,从而降低液体从坩埚装置的上表面冒出来损坏坩埚装置的风险。 | ||
搜索关键词: | 坩埚 装置 | ||
【主权项】:
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