[发明专利]二维X射线吸收光栅制作方法在审
| 申请号： | 202010398320.2 | 申请日： | 2020-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN111522085A | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 宗方轲;杨君;郭金川;吴浩 | 申请（专利权）人： | 深圳大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 深圳市深弘广联知识产权代理事务所(普通合伙) 44449 | 代理人： | 向用秀 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二维X射线吸收光栅制作方法，属于光栅技术领域，先将强吸收X射线的强玻璃棒和弱吸收X射线的弱玻璃棒排列在一起，再通过多次热熔和拉丝工艺得到预定光栅周期的玻璃束段，最后切割玻璃束得到光栅面板；相比于现有的刻蚀技术，解决大深宽比微孔的制作难题，可以大批量制作出大面积均匀性较好的大深宽比X射线吸收光栅，同时由于使用强吸收玻璃，避免了现有刻蚀技术中填充高原子序数不均匀的流程。 | ||
| 搜索关键词： | 二维 射线 吸收 光栅 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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