[发明专利]一种用于50~70nm真空紫外波段的偏振多层膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010398895.4 申请日: 2020-05-12
公开(公告)号: CN111381306B 公开(公告)日: 2022-02-15
发明(设计)人: 朱杰;金宇;冀斌;陈溢祺;朱忆雪;朱东风;朱运平;金长利 申请(专利权)人: 苏州江泓电子科技有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C23C14/35;C23C14/18;C23C14/06
代理公司: 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 代理人: 张铁兰
地址: 215400 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种用于50~70nm真空紫外波段的偏振多层膜及其制备方法,属于薄膜制备技术领域。本发明采用“亚四分之一波长”设计思想,与非周期多层膜技术相结合,实现50~70nm的真空紫外波段,能量连续可调的宽带的偏振多层膜。横向梯度多层膜与非周期多层膜是极紫外与软X射线波段范围内实现宽通带的两种方法。在极紫外与软X射线波段,横向梯度多层膜可以实现宽带可调的基础在于,所有材料的光学常数都接近于1,因此多层膜物理周期厚度约等于其光学厚度,所以当实现多层膜物理厚度在横向梯度方向上线性变化时,就实现了在横向梯度方向上光学厚度的线性变化,进而实现宽带可调,即在较高反射率前提下,实现了偏振度的提高。
搜索关键词: 一种 用于 50 70 nm 真空 紫外 波段 偏振 多层 及其 制备 方法
【主权项】:
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