[发明专利]一种实现电子束物理气相沉积自动蒸发陶瓷靶材的装置有效
| 申请号： | 202010400415.3 | 申请日： | 2020-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN111607762B | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 彭徽;滕晓丹;王博;郭洪波;宫声凯 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学;中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种实现电子束物理气相沉积自动蒸发陶瓷靶材的装置，在电子束物理气相沉积制备涂层的过程中，通过升降组件带动水冷坩埚内的靶材按照一定速度自动上升，通过旋转组件带动水冷坩埚内的靶材按照一定速度自动旋转，并结合电子束束流在靶材上扫描方法的优化，实现电子束物理气相沉积过程中靶材的自动、均匀、稳定蒸发，从而提高电子束物理气相沉积涂层制备过程的工艺稳定性，获得厚度重复性好、成分均匀稳定的高质量涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 电子束 物理 沉积 自动 蒸发 陶瓷 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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