[发明专利]一种铪铝氧薄膜的制备方法及其应用有效

专利信息
申请号: 202010402797.3 申请日: 2020-05-13
公开(公告)号: CN111668023B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 陆旭兵;杨慧 申请(专利权)人: 肇庆市华师大光电产业研究院
主分类号: H01G4/005 分类号: H01G4/005;H01G4/008;H01G4/33;C23C16/40;C23C16/455;C23C16/56
代理公司: 广州正明知识产权代理事务所(普通合伙) 44572 代理人: 张丽
地址: 526000 广东省肇庆市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于射频/微波介质薄膜技术领域,具体涉及一种电学性能优异的铪铝氧薄膜的制备方法及其在制备射频薄膜电容器中的应用,为研制高电容密度、低漏电流、高击穿电压以及较小的电压系数的射频/微波介质薄膜,本发明提供了一种电学性能优异的铪铝氧薄膜的制备方法,以一定铪铝掺杂比的四(二甲基酰胺)铪和三甲基铝为前驱体,通过臭氧利用原子层沉积技术于一定铪源加热温度以及生长温度下在重掺硅上生长铪铝氧薄膜,最后经高温退火处理后得到,应用于制备射频薄膜电容器领域,所制备得到的铪铝氧薄膜电容器具有较高的击穿电压、较小的漏电流、较大的介电常数和较低的介电损耗;同时,本发明的铪铝氧薄膜电容器结构简单,比较容易制备得到。
搜索关键词: 一种 铪铝氧 薄膜 制备 方法 及其 应用
【主权项】:
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