[发明专利]利用激光偏振态实现纳米光栅刻印的解决方案在审
| 申请号： | 202010402865.6 | 申请日： | 2020-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN111830614A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 兰胜;李树磊 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;B23K26/362 |
| 代理公司： | 广州容大知识产权代理事务所(普通合伙) 44326 | 代理人： | 潘素云 |
| 地址： | 510006 广东省广州市番禺区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用激光偏振态实现纳米光栅刻印的解决方案，其中设计一种简单的结构，可以利用激光诱导纳米光栅制作超分辨图案，通过调节激光波长、功率、偏振方向改变纳米颗粒重塑强度和纳米光栅的取向，提出两种调节照明白光的偏振态实现颜色的调控的方法，实现对偏振的敏感感应，并得到的空间分辨率0.5微米的高分辨率、高饱和度颜色。形成的纳米光栅对反射光有偏振调控作用，利用纳米光栅对线偏振白光的保偏和旋转特性，可以在空间分辨率0.5微米的像素中识别角分辨率为10°的激光偏振态，实现超高密度光存储。相比于现有的SOI(Silicon‑On‑Insulator，绝缘衬底上的硅)刻蚀工艺，本发明的方案制作方法简单，没有复杂的工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 激光 偏振 实现 纳米 光栅 刻印 解决方案 | ||
【主权项】：
暂无信息
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