[发明专利]低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统在审
申请号: | 202010407037.1 | 申请日: | 2020-05-14 |
公开(公告)号: | CN111594446A | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 王晓伟;阚存东;李虎 | 申请(专利权)人: | 上海利方达真空技术有限公司 |
主分类号: | F04C28/24 | 分类号: | F04C28/24;F04C25/02 |
代理公司: | 北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙) 11392 | 代理人: | 张新利;谢建玲 |
地址: | 201822 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统,包括真空室、真空泵组、真空抽气管道阀门组件、工作气体输入单元、调节气体输入单元、压力测量单元和电气控制单元,真空泵组通过真空抽气管道对真空室抽取真空。工作气体输入单元包括电磁阀Ⅰ、质量流量控制器Ⅰ及工作气体管路,向真空室充入工作气体。调节气体输入单元包括电磁阀Ⅱ、质量流量控制器Ⅱ及调节气体管路,向真空泵组抽气口充入大气。电气控制单元采用PLC控制真空泵组和电磁阀的开/关、设定工作气体充气流量、设定真空室目标压力值,根据压力测量单元反馈的真空室动态压力值,对调节气体充气流量进行PID调整,实现对真空室动态压力的精确控制。 | ||
搜索关键词: | 真空 系统 持续 工作 气体 动态 压力 精确 控制系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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