[发明专利]一种等离子体射流发生装置及系统在审
| 申请号： | 202010407099.2 | 申请日： | 2020-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN111465160A | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 王谦;刘熊;王思齐;甘汶艳;李思全;李永福;彭华东;任啸;李小平;汪金刚 | 申请（专利权）人： | 国网重庆市电力公司电力科学研究院;国家电网有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 贺春林 |
| 地址： | 401123 重庆市渝北*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体射流发生装置及系统，所述装置包括：管体和电极；其中，所述电极环绕在所述管体上；所述管体包括接收工作气体的气体输入端以及出射等离子体射流的射流端；在向所述气体输入端通入工作气体后，所述电极用于向管体内工作气体施加电压直至击穿所述工作气体以形成等离子体射流。本发明装置通过将电极间隔环绕管体上，能够在管体内构建多个可供气体粒子充分碰撞激发的区间，可提高射流中的活性基团的含量，且能够有效避免杂质元素混入射流中，提高射流的能量，在对高分子材料进行表面改性处理时，提高疏水等改性处理的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 射流 发生 装置 系统 | ||
【主权项】：
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