[发明专利]一种具有纳米银离子层的覆膜口罩过滤层及其制作工艺在审
| 申请号： | 202010407488.5 | 申请日： | 2020-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN111713774A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 沈建强 | 申请（专利权）人： | 浙江鑫科纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | A41D13/11 | 分类号： | A41D13/11;A41D31/30;A41D31/10;A41D31/02;A41D31/04;A41D31/12;B29C65/52;B29C65/78;B29L31/48 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 岳野 |
| 地址： | 313000 浙江省湖州市湖*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种具有纳米银离子层的覆膜口罩过滤层及其制作工艺，所述过滤层包括内层纺粘无纺布、PTFE纳米膜和外层纺粘无纺布，所述制作工艺包括：A、喷涂：选取内层纺粘无纺布，在其表面均匀喷涂一层纳米银离子；本发明的有益效果在于：通过本申请工艺制得的口罩过滤层，同时具有物理拦截和静电吸附两种过滤方式，并且利用PTFE纳米膜0.02‑0.05μm的孔径，有效阻隔有毒气体、气溶胶、有毒毒液体，又能保证水蒸气通过，使得该过滤层具有高阻隔、高防水、高透湿的功能；利用该过滤层制得的口罩更加耐用、可水冲洗重复性使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 纳米 银离子 口罩 过滤 及其 制作 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江鑫科纳米科技有限公司，未经浙江鑫科纳米科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010407488.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种双测时模式TDC芯片设计制造
- 下一篇：高速铁路中接触网用监控系统及方法
