[发明专利]一种可模拟神经突触的聚合物/量子点薄膜忆阻器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010407534.1 申请日: 2020-05-14
公开(公告)号: CN111477740B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 李岚;许江华;徐建萍;石少波;杨鹏城;刘丁;王斌 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: H10N70/20 分类号: H10N70/20
代理公司: 天津合正知识产权代理有限公司 12229 代理人: 马云云
地址: 300302 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了一种可模拟神经突触的聚合物/量子点薄膜忆阻器,所述忆阻器包括从下至上依次设置的导电基底(1)、聚合物薄膜层(2)、碳基量子点层(3)、半导体量子点层(4)以及顶电极(5)。本发明所述的忆阻器结构在电场循环扫描下阻态持续变化,可以实现对神经突触的学习与记忆功能的模拟如长时程增强效应(LTP)和长时程抑制效应(LTD)。本发明所制备的阻变层均为溶液旋涂所得,可在柔性衬底上制备,应用可穿戴电子产品领域。器件具有尺寸小、结构简单、可集成芯片、功耗低的优点,可模仿人脑神经突触处理和学习工作行为,应用于新型微电子仿生单元,提高计算机的速度和并行处理能力。
搜索关键词: 一种 模拟 神经 突触 聚合物 量子 薄膜 忆阻器 及其 制备 方法
【主权项】:
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