[发明专利]光源系统及投影装置在审
| 申请号： | 202010409023.3 | 申请日： | 2020-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN113671777A | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 黄世凯 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 徐丽;张小丽 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光源系统，包括：光源，用于出射第一光，第一光为白光；第一波长选择结构，位于第一光的出射路径上，包括波长选择部和第一透光部，波长选择部用于选择透射第一光中位于第一目标波段的光，第一透光部用于透射第一光，波长选择部和第一透光部周期性地位于第一光的出射路径上，第一波长选择结构出射的光为第二光；以及第二波长选择结构，位于第二光的出射路径上，包括补光部和第二透光部，补光部用于选择透射第二光中位于第二目标波段的光，第二透光部用于透射第二光，补光部和第二透光部分时位于从第一透光部透射的光的出射路径上，第二波长选择结构出射的光为光源光，用于显示图像。本发明还提供一种投影装置。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 系统 投影 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司，未经鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010409023.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：电子组件散热结构及散热系统
- 下一篇：通信设备及其滤波器
